MIT的研究人员已经找到一种全新的方式，只需要一种能在透明与非透明状态之间转换的材料，用特定波长的光照射，就能在微型芯片上获得极细的线条。 　　 　　这种材料并不新奇，但研究人员找到了一种全新的方法来利用这一特性，用于构造出极其细微线条的透明蒙板，用这个蒙板可以在材质上创建出对应的细微线条。制造这样细微的线条对于很多新技术而言是关键的，从不断追求往一块芯片上加入更多元件的芯片制造业，到日渐显露头角的纳米技术。但这些技术都面临一个极限，即他们都要依赖于光的波长，大多数技术无法获得比光波长更小尺度的图样，而这个新技术则弥补了这一点。

  　问题的关键在于使用干涉图样，不同波长的相干光在不同位置会彼此增强或抵消。研究者将这种对光反应变色的材料，材料改变颜色后，便会对对应的光线透明。曝光时用一对图样的蒙板，各自采用不同波长的光同时进行曝光。当一种波长的亮线与另一种波长的暗线对应交叠时，极细小的线条就产生了。这一层材料便可作为蒙板，用第一种波长的光线照明，就像用负片在相纸上冲洗出照片一样，在底层材料上留下图样。

　　这个研究是由电子学研究实验室工程师Rajesh Menon和化学系研究生Trisha Andrew以及电子工程与计算机科学系的研究生Hsin-Yu共同完成的，研究的论文已经发表在4月10日的《科学》杂志上。

　　这项了不起的新技术，研究人员成为吸光率调制，使得制造出所用光线波长十分之一粗细的线条成为可能。成功实现这一过程的部分关键在于找到合适的光敏材料，其在最初曝光之后透明与不透明区域都应保持稳定。

　　使用这种方法，研究团队制造出了36纳米宽的线条，并宣称他们还可以制造出许多同样大小间隔的线条。

　　Menon说，这种技术会对芯片制造带来显著的冲击，也会使依赖于纳米尺度技术的新兴领域的研究工作成为可能，包括纳米光子学，纳米流体力学，纳米电子学以及纳米生物系统。

　　Menon已经成立一个公司，以继续这项技术的研发，他期望能在5年内实现商用化。

　　但这并不是这一技术唯一的潜在运用，Menon称他的团队正在寻求这套系统在成像系统中的可能运用，有可能使纳米尺度的新型显微镜成为可能，这在生物学与材料科学中将有巨大应用前景。同时，他也在寻求使用这种技术把类似图案的尺度降低到单个分子的大小。