英特尔和美光组建了合资企业IMFT(Intel-Micron Flash TechnologIEs),其中英特尔占49%的股份,美光占51%的股份。
图 1 联合投资结构
IMFT最初的制造工艺是72nm,2008年是50nm,去年缩小到34nm,而今年则达到了25nm,本年末英特尔将推出基于该工艺制造的X25-M G2,美光也将推出RealSSD C300。
图 2 IMFT制造工艺演进路线图
IMFT在1月末宣布在2位单元MLC NAND闪存上采用25nm制造工艺,将于第二季度开始量产,预计年末将上市销售,另外,英特尔第三代X25-M SSD硬盘将在第四季度上市,有160GB,320GB和600GB三个容量可选,这些SSD硬盘都将采用IMFT最新的25nm闪存。
第一款25nm产品是一个8GB MLC NAND闪存,使用IMFT 25nm工艺生产的单个8GB芯片大小是167mm2,运用了浸入式光刻技术,但宽度尚不明确,这是英特尔历史上第一个采用浸入式光刻技术的产品。
图 3 25nm IMFT 2位单元MLC NAND闪存,容量8GB,167mm2
34nm旗舰产品是一个4GB 2位单元MLC NAND闪存,芯片大小172mm2,而25nm工艺在相同大小的芯片上容量可以翻倍,照这样推算,价格也应该翻倍。
图 4 34nm IMFT 2位单元MLC NAND闪存,4GB,172mm2
很明显供需经济关系会在这里发挥它们的作用,我们可能看不到咄咄逼人的定价,但我们认为25nm X25-M比34nm的G2市场需求量要高。
去年IMFT公司宣布将推出一款3位单元34nm的MLC NAND闪存,本次发布的25nm新品让之前的决定成为一句空话,但我们可能会看到3位单元25nm闪存,3位单元MLC闪存只适合廉价或低循环周期的设备,如U盘。
图 5 34nm IMFT 3位单元MLC NAND闪存,4GB,126mm2
25nm IMFT NAND设备支持ONFi 2.2,意味着接口的速度最高可以达到200MB/s。
25nm NAND的其它主要变化是页面大小增加了,在50nm和34nm时代,IMFT的页面大小是4KB,现在在25nm 8GB设备上页面大小是8KB,块大小也从128页提高到256页,很明显这对性能有显著影响,并需要进行固件重组,鉴于英特尔已经知道这些事实,我预计它的第三代硬盘将会为25nm进行优化。
IMFT公司认为有望进一步缩小闪存器件,前提是必须让晶体管变得更小,当我们的工艺达到一位数级别时,那时我们谈论的也许就是原子了。
图 6 10nm工艺的NAND器件,宽度相当于20个原子的大小
现在IMFT保持12-15个月的发布周期,因此我们预计下一个工艺水平将在2011年年中出样,2012年上市。
图 7 下一代闪存产品会是什么样子?
图 8 通过3D垂直堆叠技术提升NAND闪存容量
如果IMFT可以提高25nm NAND闪存的产量,2012年可能是SSD硬盘成为主流的第一年。
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本文来源:未知 作者:佚名