问题的关键在于使用干涉图样,不同波长的相干光在不同位置会彼此增强或抵消。研究者将这种对光反应变色的材料,材料改变颜色后,便会对对应的光线透明。曝光时用一对图样的蒙板,各自采用不同波长的光同时进行曝光。当一种波长的亮线与另一种波长的暗线对应交叠时,极细小的线条就产生了。这一层材料便可作为蒙板,用第一种波长的光线照明,就像用负片在相纸上冲洗出照片一样,在底层材料上留下图样。
这个研究是由电子学研究实验室工程师Rajesh Menon和化学系研究生Trisha Andrew以及电子工程与计算机科学系的研究生Hsin-Yu共同完成的,研究的论文已经发表在4月10日的《科学》杂志上。
这项了不起的新技术,研究人员成为吸光率调制,使得制造出所用光线波长十分之一粗细的线条成为可能。成功实现这一过程的部分关键在于找到合适的光敏材料,其在最初曝光之后透明与不透明区域都应保持稳定。
使用这种方法,研究团队制造出了36纳米宽的线条,并宣称他们还可以制造出许多同样大小间隔的线条。
Menon说,这种技术会对芯片制造带来显著的冲击,也会使依赖于纳米尺度技术的新兴领域的研究工作成为可能,包括纳米光子学,纳米流体力学,纳米电子学以及纳米生物系统。
Menon已经成立一个公司,以继续这项技术的研发,他期望能在5年内实现商用化。
但这并不是这一技术唯一的潜在运用,Menon称他的团队正在寻求这套系统在成像系统中的可能运用,有可能使纳米尺度的新型显微镜成为可能,这在生物学与材料科学中将有巨大应用前景。同时,他也在寻求使用这种技术把类似图案的尺度降低到单个分子的大小。
本文来源:MIT 作者:佚名